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本实用新型公开一种用于清洗单晶硅抛光片的湿法进料升降台，升降台设置在清洗水槽正上方并能上下移动，升降台包括呈“L”形设置的侧壁和底壁，所述侧壁上部设有用于将升降台固定在升降电机上的螺孔，侧壁的下部沿竖直方向设有长条形的传感通孔，所述底壁上均...
该专利属于麦斯克电子材料有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过麦斯克电子材料有限公司授权不得商用。

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