温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。

本发明公开一种激光退火装置，包括：一工件台，用于承载一硅片；一激光光源，用于提供一退火激光光束；一光束整形单元，用于将所述激光光束入射至所述硅片，所述光束整形单元还包括一微镜阵列，用于对激光光束的功率在空间上进行重新分布。本发明同时公开了一...
该专利属于上海微电子装备有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过上海微电子装备有限公司授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。