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本发明涉及半导体领域，具体公开了一种改善多晶硅表面缺陷的方法，具体即：利用含硫钝化液或SCl2气体对多晶硅进行表面钝化处理，所述含硫钝化液为硫化铵溶液或硫化钠溶液。本发明通过含硫钝化液或SCl2气体对多晶硅进行表面钝化处理，能够有效的出去再...该专利属于京东方科技集团股份有限公司;鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司所有，仅供学习研究参考，未经过京东方科技集团股份有限公司;鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司授权不得商用。