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本发明涉及一种研磨垫，其包含具有压力分散层的缓冲层。本发明还提供一种研磨装置及制造研磨垫的方法。...
该专利属于三芳化学工业股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过三芳化学工业股份有限公司授权不得商用。

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