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一种材料表面金属图案的光催化镀制备方法，属于材料表面处理技术领域。其特征是，将沉积纳米半导体薄膜的基体材料表面直接浸入化学镀液中，沉积纳米半导体薄膜的基体材料表面对着光源，在光源和沉积纳米半导体薄膜的基体材料表面之间放置模板，将模板上的透光...
该专利属于北京科技大学所有，仅供学习研究参考，未经过北京科技大学授权不得商用。

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