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氧化物半导体薄膜及其制造方法以及薄膜晶体管技术
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文档序号:11756133
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本发明的目的在于,通过氧化物结晶质薄膜提供具有比较高的载流子迁移率并且适宜作为TFT的信道层材料的氧化物半导体薄膜。该氧化物半导体薄膜是通过对由含有铟和钛的氧化物构成且钛含量以Ti/In原子数比计为0.005~0.12的非晶质膜,以250℃...
该专利属于住友金属矿山株式会社所有,仅供学习研究参考,未经过住友金属矿山株式会社授权不得商用。
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