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本实用新型涉及一种可传输研磨液的化学机械研磨设备，属于半导体集成电路工艺技术领域，包括研磨垫以及研磨台面，其中，研磨垫具有用于传输研磨液的出液孔以及沟槽结构，出液孔贯穿该研磨垫，为沟槽结构供给研磨液，沟槽结构分布于所述研磨垫的上表面，且沟槽...
该专利属于上海集成电路研发中心有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过上海集成电路研发中心有限公司授权不得商用。

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