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本发明涉及一种用于形成柔性多稳态元件(5)的方法，包括：蚀刻硅部件(S)，在该硅部件中，梁(P)连接刚性质量块(MU)的两端(E1；E2)，该刚性质量块的横截面是所述梁(P)的横截面的至少十倍以上；在1100℃生长SiO2一段时间，对该段时...
该专利属于尼瓦洛克斯-法尔股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过尼瓦洛克斯-法尔股份有限公司授权不得商用。

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