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磁控溅射镀膜设备制造技术
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文档序号:11719477
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本实用新型公开了一种磁控溅射镀膜设备,包括依次相连的镀膜腔室、过渡室、缓冲室、出口锁定室、出口室和骤冷室;所述镀膜腔室的设置温度为380℃~600℃,所述骤冷室的设置温度为5℃~15℃,所述骤冷室的长度为0.5m~3.0m。这种磁控溅射镀膜...
该专利属于宜昌南玻显示器件有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过宜昌南玻显示器件有限公司授权不得商用。
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