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铝化合物、薄膜形成用原料及薄膜的制造方法技术
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文档序号:11679596
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本发明涉及下述通式(I)所示的铝化合物。另外,本发明涉及含有该铝化合物而成的薄膜形成用原料。下述通式(I)中,R1及R2各自独立地表示碳数为2~5的直链或支链状的烷基,R3表示甲基或乙基。优选R1及R2为乙基。本发明的化合物为低熔点,显示充...
该专利属于株式会社艾迪科所有,仅供学习研究参考,未经过株式会社艾迪科授权不得商用。
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