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一种低气压等离子体增强渗氮的设备，属于材料表面改性技术领域。包括氮化炉腔体，氮化炉盖盖合于氮化炉腔体上部开口之上，氮化炉腔体底部安装有支撑平台，支撑平台上放置工件，支撑平台与工件偏压电源负极相连，支撑平台与氮化炉腔体绝缘，偏压电源正极与氮化...
该专利属于大连理工常州研究院有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过大连理工常州研究院有限公司授权不得商用。

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