下载用于制作磁性介质和其他结构的嵌入式掩模图案化处理的技术资料

文档序号:11640328

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在一些实例中,一种方法包括:在基板上沉积功能层(例如,磁性层);在功能层上沉积粒状层,该粒状层包括限定多个晶粒的第一材料,通过限定多个晶粒的晶界的第二材料分开该多个晶粒;从粒状层移除第二材料,使得粒状层的多个晶粒在功能层上限定硬掩模层;以及...
该专利属于明尼苏达大学董事会所有,仅供学习研究参考,未经过明尼苏达大学董事会授权不得商用。

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