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粒子射线照射装置及粒子射线治疗装置制造方法及图纸
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文档序号:11615631
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本发明的目的在于获得消除扫描电磁铁的磁滞影响、且在光栅扫描、混合扫描中实现高精度射束照射的粒子射线照射装置。包括:扫描电源(4),该扫描电源(4)输出扫描电磁铁(3)的励磁电流;以及照射控制装置(5),该照射控制装置(5)控制扫描电源(4)...
该专利属于三菱电机株式会社所有,仅供学习研究参考,未经过三菱电机株式会社授权不得商用。
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