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一种CMP衬垫修整器，其包括多个研磨块。每个研磨块包括块坯和附着于块坯的研磨层，该研磨层包括超硬研磨材料。还提供一种衬垫修整器基底。所述多个研磨块中的每一个以一个取向被永久固定在衬垫修整器基底上，其能够随着衬垫修整器和CMP衬垫的相对移动通...
该专利属于宋健民;M·宋所有，仅供学习研究参考，未经过宋健民;M·宋授权不得商用。

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