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本发明涉及一种双层低折射率减反射膜的制备方法,其制备方法的步骤如下:⑴酸性催化的SiO2溶胶的制备;⑵TiO2溶胶的制备;⑶玻璃基片的准备清洗;⑷薄膜的制备。本发明利用溶胶-凝胶酸催化法和浸渍提拉法制备一层与玻璃基材结合牢固的SiO2低折射...该专利属于天津森宇仕达科技发展有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过天津森宇仕达科技发展有限公司授权不得商用。
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