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本发明公开了一种光刻曝光系统，沿光传播方向依次包括：相干光源、分光光学元件、扩束系统、微透镜阵列、可变聚焦透镜以及载有曝光片的工作台；其中，相干光源产生入射光，经分光光学元件分成若干束相干光束，相干光束经扩束系统扩束后入射到微透镜阵列，再次...
该专利属于上海微电子装备有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过上海微电子装备有限公司授权不得商用。

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