温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。
本发明公开了一种溅射室压力稳定方法、溅射镀膜方法和稳压溅射装，溅射室压力稳定方法包括以下步骤：1)实时测量靶材溅射区域的真空值以得到实测值，实时测量靶材非溅射区域的真空值以得到参照值；2)调整抽取气体的速度使得所述实测值和所述参照值均处于预...该专利属于湖南普照信息材料有限公司;湖南电子信息产业集团有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过湖南普照信息材料有限公司;湖南电子信息产业集团有限公司授权不得商用。