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本发明公开了一种尺寸可控制的纳米块制作方法，该方法包括：在基底的上表面设置一光刻胶层；对所述的基底进行第一次曝光，从而在光刻胶层上记录一维光栅图形；对第一次曝光后的基底进行显影，从而显露出一维光刻胶光栅图案；对显影后的基底进行第二次曝光和显...
该专利属于广州中国科学院先进技术研究所所有，仅供学习研究参考，未经过广州中国科学院先进技术研究所授权不得商用。

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