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本发明涉及餐具镀膜，具体涉及一种真空双极溅射餐具镀膜方法，包括封闭的溅射室，溅射室的中间为带负极的金属柱体，即单极靶，所述单极靶设置成中空，且单极靶内设置有磁块，由磁块形成定磁场；溅射室内、单极靶的周围设置带正极的工架；具体镀膜步骤如下：步...
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