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一种敌草隆分子印迹聚合物的制备方法及其应用技术
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文档序号:11516468
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本发明提供一种敌草隆分子印迹聚合物的制备方法,以敌草隆为模板,将模板、功能单体、交联剂、引发剂、致孔剂聚合形成聚合物,将聚合物真空干燥、过筛、去除模板,通过真空干燥得到敌草隆高选择性吸附材料。本发明对敌草隆有高度的亲和性和选择性,合成过程简...
该专利属于天津科技大学所有,仅供学习研究参考,未经过天津科技大学授权不得商用。
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