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本发明提供一种曝光装置及光路控制装置。所述曝光装置用于对位于不同曝光区的至少两个待曝光产品进行同时曝光，所述曝光装置包括：光发生组件，用于生成第一光线；光路控制单元，与掩膜版配合，利用所述第一光线产生投射到所述至少两个待曝光产品的待曝光区域...该专利属于京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司授权不得商用。