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本发明提供一种制备光学防伪元件的方法，其克服了现有技术中在制备光学防伪元件时误差大、可靠性低等缺陷。该方法包括：在基材的表面上形成表面浮雕结构层，该表面浮雕结构层包括至少两个区域，其中各个所述区域中的表面浮雕结构层的表面积与表观面积的比值互...该专利属于中钞特种防伪科技有限公司;中国印钞造币总公司所有，仅供学习研究参考，未经过中钞特种防伪科技有限公司;中国印钞造币总公司授权不得商用。