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本发明涉及一种以氨基钛为钛源的Al/Ti薄膜原子层沉积方法，包括以下步骤：(1)前处理：选择电阻率0.01～0.04Ωcm的衬底，98％H2SO4和30％H2O2混合液清洗，两者体积比为7.0:2.0～5.0，超纯水漂洗，N2吹干，循环清洗...
该专利属于江南大学所有，仅供学习研究参考，未经过江南大学授权不得商用。

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