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光学设备包括具有多个微小尺寸刻面的第一表面，每一个刻面具有相应取向。所述多个刻面具有平行于所有所述相应取向的平均取向的法向矢量延伸的光轴。多个微小尺寸刻面包括形成刻面的子集的有意义的图案。所述子集具有选自以下中的至少一个特征：与相邻刻面的相...
该专利属于皇家飞利浦有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过皇家飞利浦有限公司授权不得商用。

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