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本发明涉及式(I)的化合物，其中R1是苯基，其任选地被卤素，低级烷基，低级环烷基，低级烷氧基，氰基，被卤素取代的低级烷基，被羟基取代的低级烷基，被卤素取代的低级烷氧基或被羟基取代的低级烷氧基取代；或是吡啶-2，3或4-基，其任选地被卤素，低...
该专利属于霍夫曼-拉罗奇有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过霍夫曼-拉罗奇有限公司授权不得商用。

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