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一种场效应器件及其制备方法技术
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文档序号:11448266
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本发明实施例公开了一种场效应器件及其制备方法,用于解决现有的隧穿晶体管存在的多种缺陷,本发明实施例方法包括:具有第一种掺杂类型的半导体衬底;在半导体衬底表面形成的、具有第一种掺杂类型的漏区;在漏区表面形成凸体;在凸体以外的漏区表面形成的栅极...
该专利属于华为技术有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过华为技术有限公司授权不得商用。
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