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本发明公开了一种基板处理装置，包括传送单元，将基板在基板处理装置内进行传输；药洗单元，利用化学处理液对经过药洗单元的基板进行清洗；水洗单元，利用循环水清洗经过水洗单元的基板供下一步干燥处理；以及置换单元，置换单元设于药洗单元和水洗单元之间，...
该专利属于深圳市华星光电技术有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过深圳市华星光电技术有限公司授权不得商用。

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