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本发明涉及式(I)的化合物，其中R1是任选被卤素、低级烷基、低级烷氧基、被卤素取代的低级烷基和被卤素取代的低级烷氧基取代的苯基或吡啶基；X1是-N＝或CH；X2是CR2或＝N-；X3是-N＝或CH；条件是X1，X2或X3中仅两个是氮；其中三...
该专利属于霍夫曼-拉罗奇有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过霍夫曼-拉罗奇有限公司授权不得商用。

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