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一种隔离结构的形成方法，包括：提供衬底；进行氧离子注入，以在衬底距离衬底表面一定深度的位置形成掺杂区；进行氧离子注入之后，在衬底内形成沟槽；形成沟槽之后，进行热处理以在掺杂区位置形成埋氧化层，沟槽露出埋氧化层；形成覆盖沟槽底部和侧壁的绝缘层...
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