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真空清洁装置，包括：具有在应用时被定位成邻近待清洁表面的下表面(110)的清洁头(102)。气流通道(112)被界定在清洁头(102)内，该气流通道(112)具有配置成连接至真空源的第一端和界定紧邻清洁头(102)的下表面(110)的开口(...该专利属于布莱恩·约翰·伊格尔斯托内所有，仅供学习研究参考，未经过布莱恩·约翰·伊格尔斯托内授权不得商用。
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真空清洁装置，包括：具有在应用时被定位成邻近待清洁表面的下表面(110)的清洁头(102)。气流通道(112)被界定在清洁头(102)内，该气流通道(112)具有配置成连接至真空源的第一端和界定紧邻清洁头(102)的下表面(110)的开口(...