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一种激光刻蚀用于磁控溅射薄膜图案化的制作方法技术
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文档序号:11203558
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本发明公开了一种激光刻蚀用于磁控溅射薄膜图案化的制作方法。其工艺步骤为:①采用磁控溅射在基片上制备金属薄膜或无机非金属氧化物薄膜,并依据材料种类和工艺需要在薄膜制备过程中决定是否采用激光对薄膜进行加热处理;②将集成在磁控溅射仪上的激光刻蚀机...
该专利属于桂林电子科技大学所有,仅供学习研究参考,未经过桂林电子科技大学授权不得商用。
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