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一种新型结构的低介电常数双面挠性覆铜板制造技术
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文档序号:11194283
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本发明提供了一种新型结构的低介电常数双面挠性覆铜板,包括绝缘层和其两侧的铜箔层,所述绝缘层由液晶聚酯层和其两侧的Low Dk的聚酰亚胺树脂层组成,绝缘层厚度为12-50um。所述新型结构的低介电常数双面挠性覆铜板及其制备方法,能够制备绝缘层...
该专利属于广东生益科技股份有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过广东生益科技股份有限公司授权不得商用。
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