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半导体构造、存储器单元、存储器阵列及形成存储器单元的方法技术
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文档序号:11182093
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一些实施例包含一种直接在间隔开的节点上方具有氧敏感结构的构造。每一氧敏感结构包含成角度板,所述成角度板具有沿着节点的顶部表面的水平部分及从所述水平部分向上延伸的非水平部分。每一成角度板具有:内部侧壁,其中内侧拐角形成于所述非水平部分与所述水...
该专利属于美光科技公司所有,仅供学习研究参考,未经过美光科技公司授权不得商用。
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