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本发明公开了一种套刻测量装置和方法，用于检测套刻误差，该装置包括：光源，用于提供照明光束；物镜，用于将照明光束汇聚到待测样品上，并收集待测样品表面的衍射光；空间光调制器，位于物镜光瞳面，用于控制不同衍射级次的衍射光束通过；第一光谱仪，用于测...
该专利属于上海微电子装备有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过上海微电子装备有限公司授权不得商用。

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