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一种磁传感器及其制备工艺制造技术
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文档序号:11162257
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本发明揭示了一种磁传感器及其制备工艺,所述制备工艺包括:在基底上沉积介质材料,形成第一介质层;在第一介质层上形成沟槽阵列;沟槽开口处的宽度大于深度;沉积磁材料,形成磁材料层;在磁场中进行退火,退火气氛为氮气,或为惰性气体,或为真空;制备填充...
该专利属于上海矽睿科技有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过上海矽睿科技有限公司授权不得商用。
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