温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。

本发明公开了线圈结构及其制作方法，该线圈结构系包含若干个导片及绝缘层。该些导片系相互堆迭并电性连接，以形成该线圈结构。该些导片将铜箔以冲压成型方法所制成，且其形状为螺旋环绕至少一回圈。因此，本发明的线圈结构能够降低铜线产生的集肤效应，亦可降...
该专利属于重庆美桀电子科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过重庆美桀电子科技有限公司授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。