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本发明公开一种含倍半萜的成膜树脂及其深紫外（DUV）波段曝光的负性248nm光刻胶，由共聚单体在自由基引发剂存在的条件下，在溶剂中进行共聚反应制备而成。所述成膜树脂的分子量为2,000～1,000,000；所述共聚单体主要为下列质量百分含量...
该专利属于昆山西迪光电材料有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过昆山西迪光电材料有限公司授权不得商用。

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