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本发明提供一种监控装置以及磁控溅射设备，通过在监控装置中设置用于产生提醒信号的提醒器件：用于当磁控溅射设备内的水冷板发送位移时，触发所述提醒器件产生提醒信号的触发器件。从而可以及时、准确的监控磁控溅射设备腔室内水冷板的位移程度，预防异常成膜...该专利属于京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司授权不得商用。