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抑制输出非线性开启的隧穿场效应晶体管及其制备方法技术
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文档序号:11039989
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一种抑制输出非线性开启的隧穿场效应晶体管,包括隧穿源区,沟道区,漏区,半导体衬底区,位于沟道区上方的栅介质层,以及位于栅介质层之上的控制栅;所述的沟道区位于隧穿源区上方且位置与隧穿源区部分重叠,在沟道区与隧穿源区界面处形成隧穿结;所述漏区与...
该专利属于北京大学所有,仅供学习研究参考,未经过北京大学授权不得商用。
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