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本发明涉及一种纳米银无机抗菌去污粉。本纳米银无机抗菌去污粉由以下组分按所示重量份比例范围配制：活性离子钙25～50份、无水硫酸铜15～20份、过氧碳酸钠10～15份、纳米银10～15、壳聚糖季铵盐3～8份、椰油脂肪酸甲脂磺酸钠3～8份、偏硅...
该专利属于王晓伟所有，仅供学习研究参考，未经过王晓伟授权不得商用。

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