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本发明公开了一种掩膜板及取向膜摩擦方法，掩膜板包括至少一个垫板；其中，垫板的一面为水平面，另一面至少具有与覆盖位置处的非显示区域的部分图形相匹配的图形；垫板在垫板具有图形的一面与基板接触处置处的厚度等于接触位置处非显示区域的表面与显示区域的...该专利属于京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司授权不得商用。