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本文提供了一种多充气室的双温喷头，具体描述了一种在半导体处理设备中使用的双温多充气室喷头。该喷头可以供应多种单独的气体到晶片反应区，同时保持气体在喷头内大致隔离。另外，该喷头可以被配置为允许所述喷头的面板相比于该喷头的剩余部分维持在显著更高...
该专利属于诺发系统公司所有，仅供学习研究参考，未经过诺发系统公司授权不得商用。

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