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本发明涉及一种氮化硅陶瓷化学机械抛光方法，所述方法采用具有如下组成的抛光液：一种化学机械抛光液由CeO2研磨颗粒、Cr2O3研磨颗粒、Al2O3研磨颗粒组成和水组成。与现有技术相比，本发明所述抛光方法抛光速度快，抛光时间短，提高了生产效率，...
该专利属于朱忠良所有，仅供学习研究参考，未经过朱忠良授权不得商用。

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