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本发明公开用于介质的处理的系统和方法。该系统包括多个分离器区和多个传热区。多个分离器区和传热区之中的分离器区和传热区的每个交替设置在流管中。此外，各分离器区包括用于将吸附剂注入对应分离器区中的注入器装置。在对应分离器区中，所注入的吸附剂与流...
该专利属于通用电气公司所有，仅供学习研究参考，未经过通用电气公司授权不得商用。

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