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用于制造单晶金属-半导体-复合的方法技术
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文档序号:10852032
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在用于制造半传导的功能层的表面上的单晶金属-半导体-复合的方法中首先将包含金属的储备层涂覆在功能层上。接着通过退火触发金属与功能层的反应。根据本发明,储备层最迟在从功能层的表面起5nm的层厚度的情况下结束,或储备层最迟在这个层厚度的情况下转...
该专利属于于利奇研究中心有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过于利奇研究中心有限公司授权不得商用。
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