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本发明的目的在于提供一种用于在衬底上电化学沉积金属的设备，所述设备具有：半导体器件衬底、衬底盒、衬底固持装置、第一机械手、第二机械手、第一装载台、第二装载台、电镀单元和电解液供给单元。本发明提供的在衬底上电化学沉积金属的设备具有多个电镀单元...
该专利属于马悦;何川;施广涛;黄允文;顾岩所有，仅供学习研究参考，未经过马悦;何川;施广涛;黄允文;顾岩授权不得商用。

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