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本发明提供一种处理衬底的方法，其包含：将第一衬底对齐以具有第一衬底起始位置，从而允许在第一衬底上形成的对齐标记与预设参考点匹配；将激光束辐射到第一衬底的结晶目标区域并且在第一衬底往复运动的同时形成结晶图案；取决于第一衬底的结晶图案的边缘与对...
该专利属于AP系统股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过AP系统股份有限公司授权不得商用。

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