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本发明适用于化学合成技术领域，提供了一种硅粉的制备设备，所述设备包括反应腔室、射频电源、抽真空系统、喷淋电极及传送带衬底机构。本发明采用等离子体增强化学气相沉积（PECVD）设备，借助射频装置使带含硅气体局部形成等离子体，利用等离子体化学活...
该专利属于福建省辉锐材料科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过福建省辉锐材料科技有限公司授权不得商用。

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