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本发明涉及一种处理反应器壳体的处理室(101)内的至少一个基板(105，106，107)的方法，其中，将所述一个或多个基板(105，106，107)放置于可使用加热元件(109，110，111)加热的基座(108)上，其中，使用加热元件(1...
该专利属于艾克斯特朗欧洲公司所有，仅供学习研究参考，未经过艾克斯特朗欧洲公司授权不得商用。

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