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本发明涉及一种抑制裂缝产生的铱电镀液及其电镀方法和镀膜物。所述铱电镀液包括：阴离子成分为卤素的铱(III)配盐；可溶性碱金属盐或可溶性碱土金属盐；选自饱和单羧酸、饱和单羧酸盐、饱和二羧酸、饱和二羧酸盐、饱和羟基羧酸、饱和羟基羧酸盐、酰胺和尿...
该专利属于朱忠良所有，仅供学习研究参考，未经过朱忠良授权不得商用。

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